一、标准背景

    高纯六氯乙硅烷是一种性能稳定、挥发性低的湿度敏感性的特种气体，主要用于半导体行业氧化硅膜、氮化硅膜的制备，在半导体、光电材料等领域有着广泛的应用前景。与传统的化学气相沉积法制备的氧化硅、氮化硅薄膜相比，六氯乙硅烷的沉积温度低、沉积压力低、效率高，且得到薄膜的密度、绝缘性、抗腐蚀性、兼容性皆更优。

    目前国内产业的六氯乙硅烷需求逐年增长，且大部分依赖进口。国内近年对高纯六氯乙硅烷的科研投入逐渐增多，一些企业已经有了自己的生产技术并已进行量产，逐步开拓国内外市场。在市场化阶段，良莠不齐的技术指标和充装、运输要求，使各企业如闭门造车，因此一套适合国内技术和应用水平的标准出台迫在眉睫，以打破依赖进口的被动局面。

二、标准制定

    在此之前，国家标准、行业标准及SEMI标准中均无六氯乙硅烷产品标准可供行业参考，因此《集成电路用六氯乙硅烷》团体标准的制定和发布及时填补了行业空白，为国内各企业生产高纯六氯乙硅烷产品提供了指导。

    《集成电路用六氯乙硅烷》团体标准制定参与单位包括洛阳中硅高科技有限公司、江苏南大光电材料股份有限公司、江苏雅克科技股份有限公司、中巨芯科技有限公司等，集中了我国主要的六氯乙硅烷研发生产单位，并广泛征集上下游意见，具有较高的代表性和实施可行性。 本团体标准的制定过程严格按照联盟《标准制定程序》进行，历时14个月于2020年2月24日正式发布。

三、标准主要内容

    本标准的主要内容包括以下几部分：

    其中，“技术要求”结合了用户要求及国内生产现状，按照六氯乙硅烷产品用途分为A、B两个级别，A级可以直接供集成电路客户使用，B级为原料级产品精制提纯后满足集成电路用户使用要求，技术指标如下：

“组分的测定”中规定了气相色谱仪、色谱柱的仪器类型，载气、吹扫气的纯度等；给出了推荐的色谱条件，包括柱长、检测器温度、进样口温度、柱箱温度、载气流量、吹扫气流量、分流比等；以及分析结果的计算公式与表述方法。

“杂质元素含量的测定”规定了电感耦合等离子体质谱仪、电子天平、器皿的类型；以及洁净环境、超纯水、硝酸、氢氟酸、标准贮存溶液的要求；并描述了推荐的分析步骤。

本标准还明确了六氯乙硅烷产品的包装与运输要求，并将“六氯乙硅烷安全技术说明”作为附录，便于标准的阅读与使用。

    《集成电路用六氯乙硅烷》团体标准免费为联盟成员提供电子版原文，有需求的单位请发送邮件至liuyan@icmtia.com，联系人：刘岩。